詳情介紹
精密光學平臺機械機構、特點、外形設計與“氣墊式精密隔振平臺”相同，不同之處僅是未加氣墊，該型號的平臺為廣大用戶提供了更多的選擇機會。通常采用良好的電機和傳感器技術，可以提供亞微米級別的平移和旋轉控制，使得用戶可以在一個高度準確的位置上對樣品進行操作。為了達到更高的控制精度，通常結合了良好的反饋系統(tǒng)和精密測量設備，可以實現(xiàn)對物體位置、速度、振動等多個方面的高度保持與控制。在光學試驗、顯微學以及半導體制造等領域，通常需要將樣品或器件放置在一個高度穩(wěn)定精密控制的平臺上進行操作。是一種專用于實現(xiàn)這一目的的精密運動控制裝置。
精密光學平臺的應用：
顯微學：是一個關鍵的工具，用于顯微鏡圖像獲取、分析和處理過程中樣本的調整和擺放。
半導體制造：在芯片制造、線寬校準和接觸式掩模制作(photolithography)等應用中，都發(fā)揮著重要作用，提供高精度的位置和角度控制。
光刻：是用于將納米或微米尺度部件寫入大型平板中的必要工具之一。
太陽能電池：在太陽能電池生產中，被用于設備和材料的對準和精細控制。
精密光學平臺的維護保養(yǎng)：
1.保持平臺表面干燥、清潔，防止灰塵等附著在上面影響穩(wěn)定性。
2.平臺底部安裝防震墊可以抑制震動，增強其精度和穩(wěn)定性。
3.根據制造商說明，使用適當的潤滑劑定期進行潤滑，確保運動間隙不會磨損過度。
4.要避免濕度、較高溫度和塵土過多的環(huán)境以及長時間不使用的情況下應該妥善存放已平衡并固定好的平臺。
精密光學平臺特點：
高導磁不銹鋼面板。
25×25M 6安裝螺孔方陣。
蜂窩結構隔振層面、固有頻率低、隔震性能好。
中碳鋼墻板，剛性好。
主要參數
平面粗糙度不大于0.8μm
平面度不大于0.05mm/m2
規(guī)格
1200×800×800mm
1500×1000×800mm
1800×1200×800mm
2400×1200×800mm
其它尺寸可以定做
產品型號：ZK-1